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斉藤 健司*; 幕内 恵三; 萩原 幸; 小石 真純*; 鋤柄 光則*; 武田 修三郎*
材料技術, 2(6), p.366 - 375, 1984/00
エポキシ基を表面に有する粒子を作成する目的で、メタクリル酸グリシジルの1-プロパノール溶液にナイロン12粒子を分散、Co-60線を照射した。照射条件と得られた粒子の諸性質との関係から、次の事実を明らかにした。ナイロン12粒子表面が照射によりポリメタクリル酸グリシジルで被覆されたことは、(1)ESCA分析によりナイロンのNIsピークが現われなくなることと、(2)得られた表面改質粒子のゼータ電位が、ポリメタクリル酸グリシジル粒子のゼータ電位と一致することから確認した。ポリメタクリル酸グリシジルでナイロン12粒子表面を均一に被覆するためには、線量率110rad/hrで2時間の照射が必要である。これにより、ナイロン12粒子1gあたり1mmol程度のエポキシ基を固定することができた。この放射線重合法を他のモノマーに応用したところ、メタクリル酸のみがナイロン12粒子表面上で重合し、ナイロン12粒子1gあたり、2.5mmolのカルボキシル基を表面に有する粒子が得られた。